Ulrich Hilleringmann
Silizium-Halbleitertechnologie
Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik
6., Aufl.
2014, XI, 263   S., 160 SW-Abb., 13 Tabellen. 235 mm, Softcover
Vieweg+Teubner

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Artur Laukart
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses
Berichte aus Forschung und Entwicklung IST, Band 36
Hrsg.: Fraunhofer IST, Braunschweig
2013, 184  S., zahlr., z. T. farb. Abb. u. Tab., Softcover
Fraunhofer Verlag

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Kevin Reddig
Verfahren zum flüssigkeitsbasierten Vereinzeln kontaminierter Photovoltaikwafer
Stuttgarter Beiträge zur Produktionsforschung, Band 4
Hrsg.: Fraunhofer IPA, Stuttgart
2012, 156  S., zahlr. farb. Abb. u. Tab., Softcover
Fraunhofer Verlag

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Stephan Rogowsky
Konzeption und Charakterisierung von Rippenwellenleiterlasern auf Si-Substrat basierend auf dem gitterangepassten Ga(NAsP)/(B)GaP-Materialsystem
Science for Systems, Band 5
Hrsg.: Oliver Ambacher; Fraunhofer IAF, Freiburg
2012, 171  S., zahlr. farb. Abb. u. Tab., Softcover
Fraunhofer Verlag

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Thomas Michael Gose
Analyse, Optimierung und Maßstabsübertragung der Herstellung und Aufarbeitung von Siliziumdioxid-Nanopartikeln
Berichte aus Forschung und Entwicklung IGB, Band 46
Hrsg.: Fraunhofer IGB, Stuttgart
2012, 191  S., zahlr., teils farb. Abb. u. Tab., Softcover
Fraunhofer Verlag

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Benedikt Michel
Physikalisch-chemische Eigenschaften von SiO2-Schichten auf plasmabehandelten Siliziumoberflächen
Berichte aus Forschung und Entwicklung IST, Band 34
Hrsg.: Fraunhofer IST, Braunschweig
2011, 201  S., zahlr., z. T. farb. Abb. u. Tab., Softcover
Fraunhofer Verlag

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Marko Eichler
Anlagen- und Prozessentwicklung für das Niedrigtemperatur-Direktbonden mittels Atmosphärendruck-Plasmaaktivierung
Berichte aus Forschung und Entwicklung IST, Band 32
Hrsg.: Fraunhofer IST, Braunschweig
2011, 126  S., zahlr. Abb. u. Tab., Softcover
Fraunhofer Verlag

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