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Hunter John King
Low-Temperature Silicon Deposition by Means of Hot-Wire Chemical Vapour Deposition
Berichte aus Forschung und Entwicklung IST, Band 47
Hrsg.: Fraunhofer IST, Braunschweig
2022, 114 S., num., mostly col. illus., Softcover
Fraunhofer Verlag
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Low-Temperature Silicon Deposition by Means of Hot-Wire Chemical Vapour Deposition
Berichte aus Forschung und Entwicklung IST, Band 47
Hrsg.: Fraunhofer IST, Braunschweig
2022, 114 S., num., mostly col. illus., Softcover
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Artur Laukart
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses
Berichte aus Forschung und Entwicklung IST, Band 36
Hrsg.: Fraunhofer IST, Braunschweig
2013, 184 S., zahlr., z. T. farb. Abb. u. Tab., Softcover
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Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses
Berichte aus Forschung und Entwicklung IST, Band 36
Hrsg.: Fraunhofer IST, Braunschweig
2013, 184 S., zahlr., z. T. farb. Abb. u. Tab., Softcover
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